Filtrele
Düşük sıcaklıkta kimyasal buhar biriktirme (CVD) yöntemiyle epitaksiyel sige film büyütme ve film karakterizasyonu
Growth and characterization of epitaxial sige film by chemical vapor deposition (CVD) at low temperature
Yükleniyor
Tez No: 518796
Arama sonucunda 1 kayıt bulundu.