Arama sonucunda 1 kayıt bulundu.
RF PÜSKÜRTME METODU İLE HAZIRLANAN SİO2 ARAYÜZEYLİ METAL-YARI İLETKEN KONTAKLARDA PARAMETRELERİN BELİRLENMESİ
The determination of the basic parameters of metal-semiconductor contact with SiO2 interface grown by RF sputtering method
Yükleniyor
Tez No: 212771