Filtrele
Silikon nitrat (Si3N4) filmlerin plazma destekli kimyasal buhar biriktirme (PECVD) yöntemi ile üretimi ve optik karakterizasyonu
Fabrication and characterization of silicon nitride (Si3N4) films by plasma enhancement chemical vapor deposition (PECVD)
Yükleniyor
Tez No: 397030
Arama sonucunda 1 kayıt bulundu.